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极紫外光刻光源技术相关专利报道

发布时间: 2016-06-10 14:40:59   作者:本站编辑   来源: DII   浏览次数:

在web of knowledge-Derwent Innovations Index上搜索2016年极紫外光刻光源相关专利,摘选其中10条专利进行摘要报道:

  1. 极紫外光刻光源光束传输系统的光路延迟光学系统

专利号:WO2016051518-A1

专利权人:日本Gigaphoton 公司

摘要:

l  新颖性:该系统包括一个自由电子激光装置向曝光装置发出脉冲激光辐射。收集器将脉冲激光辐射压缩进入曝光装置。位于波绞机和收集器之间的光路延迟光学系统延迟脉冲激光辐射,并根据光束横截面的位置改变延迟量。延迟光学系统将脉冲激光辐射按照光束横截面划分成片段。

l  优势:抽气装置将舱内气体抽成真空可以防止脉冲激光辐射衰减。由于脉冲激光辐射照射到光栅上的照射宽度被放大了,脉冲激光辐射的能量密度就降低了。从而防止光栅表面激光烧蚀,防止曝光装置上产生斑点,防止曝光装置中的各种光学元件或晶片上抗蚀剂的磨损。提高了反射面上反射膜的持久性。

2、极紫外光刻光源装置通过中空部特殊端向共振腔的外部空间发射等离子体辐射EUV光;

专利号:WO2016043313-A1

专利权人:日本关西大学

摘要:

l  新颖性:光源包含一个电磁波供应装置,空腔谐振器内部形成驻波。还包括一个惰性气体装置向内部空间的中空部分供应惰性气体,惰性气体吸收驻波能量形成等离子体,等离子体发射EUV光。

l  优势:改善了EUV光发射照明强度,磁场的量级控制拉莫尔半径或拉莫尔频率。显著降低形成等离子体的电子的频率,维护或改善驻波能量的增加。实现了中空部分内部空间等离子体的电子温度增加,从而实现了等离子体产生EUV光强度的增加。

3、极紫外光刻光源装置中间舱内部空间包含一个真空吸引器

专利号:WO2016043318-A1

专利权人:日本关西大学

摘要:

l  新颖性:光源包含一个电磁波供应装置,空腔谐振器内部产生电磁波。中间舱由位于中空部一端和舱内部空间之间的渗透窗构成。隔离物由构成EUV光透射材料的渗透窗组成。

l  优势:实现了中空内部空间等离子体电子温度的增加,提高了等离子体产生EUV光的强度,提高了EUV光的生产效率,

4、激光等离子体光源(LPP)在预定区域特殊范围辐射能量密度脉冲

专利号:WO2016027346-A1

专利权人:日本激光技术研究所,日本Gigaphoton 公司

摘要:

l  新颖性:系统由一个舱室和一个靶组成,靶向舱室预定区域发射的原子密度为8.0x 1017 - 1.3x 1018/cm3,激光发射能量密度为10.5J/cm2,脉冲激光辐射密度为52.3J/cm2

l  优势:可以实现EUV光的高转换效率输出。改善靶的利用效率。

5、极紫外光源包含光生成室、收集器、包材料生成器、光探测模块和内表面粗糙的管道

专利号:US2016054174-A1

专利权人:荷兰ASML 集团

摘要:

l  新颖性:光源包括一个光生成室和具有反射面的收集器。靶材料发生器向照射区域推送一些靶材料,在光发生器的外部布置一组光检测模块。管道布置在相应光电检测器模块和照射区域之间,管道具有指向照射区域的中心线,管道具有粗糙内表面。

l  优势:粗化防护管道内表面改善了光强度的均匀性。

6、极紫外光刻光源系统的靶供应设备

专利号:US2016044773-A1

专利权人:日本Gigaphoton 公司

摘要:

l  新颖性:包含一个装液体靶材料的容器,震动元件对容器施加震动,靶传感器探测容器输出的靶材料液滴,温度控制器根据靶传感器探测到的结果设置参数,信号发生器根据这些参数产生波形等电子信号,电源依照电子信号对震动元件施加电压。

l  优势:该装置通过靶间隔测量元件获得靶图像数据,探测靶的二维平面图像位置从而计算二维平面的图像之间的间隔,可以使半导体器件的特征尺寸越来越精密。

7、激光等离子体光源的振动减少系统

专利号:US2016044772-A1

专利权人:荷兰ASML 集团

摘要:

l  新颖性:振动减少系统包括一个液滴控制器,根据预定义的液滴频率调制函数调整微液滴生成函数的频率,液滴发生器根据微滴生成函数的调整频率生成液滴。

l  优势:避免飞行时间引起的振荡频率。

8、具有偏振调整系统的激光等离子体光源

专利号:WO2016012192-A1

专利权人:荷兰ASML 集团

摘要:

l  新颖性:光源包含一个聚焦元件将启动辐射束聚焦到燃料靶上,一个偏振调整装置调整启动辐射束的偏振态,使得启动辐射束具有空间不均匀偏振态横截面,进而控制启动辐射束在燃料靶上的空间强度分布,启动辐射束激发燃料靶形成等离子体发射极紫外光。

l  优势:光源减少燃料靶发射的碎片能量,以平顶强度分布的激光束照射燃料靶的等离子体形成区域,调整装置调整启动辐射束的偏振状态,从而控制聚焦在燃料靶上启动辐射束空间强度截面,使得启动辐射束照射的燃料靶具有合适的空间强度分布。

9、具有屏蔽结构的极紫外光刻光源系统

专利号:WO2016013550-A1

专利权人:日本Gigaphoton 公司

摘要:

l  新颖性: 装置包括一个等离子体产生极紫外光的舱室,液滴测量装置测量舱室的液滴,屏蔽介质屏蔽等离子体的电磁波与液滴测量设备,光源发射连续光辐射液滴,舱室设置一个窗口发射连续光,通过窗口光学传感器接收连续光。

l  优势:改善了EUV光输出的能量稳定性。

10、极紫外光刻光源包含一个光学元件将第一脉冲和第二脉冲辐射导向真空舱室内

专利号:US2016029471-A1

专利权人:个人(TAO YRAFAC R JFOMENKOV I VBROWN D J WGOLICH D J)

摘要:

l  新颖性:光源包含一个固态激光器产生第一脉冲辐射,第二光源产生第二脉冲辐射,真空舱室内部接收靶材料,光学元件将第一脉冲辐射和第二脉冲辐射导向真空舱室内。

l  优势:产生更多EUV光,光源具有更高效转换效率。

常态编译自:http://apps.webofknowledge.com/full_record.do?product=DIIDW&search_mode=AdvancedSearch&qid=2&SID=U1TbSOwCweK1C6LRaQX&page=1&doc=4&colname=DIIDW

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